ULVAC愛(ài)發(fā)科 多級(jí)羅茨干式真空泵 HR90
ULVAC愛(ài)發(fā)科 多級(jí)羅茨干式真空泵 HR90
ULVAC愛(ài)發(fā)科 多級(jí)羅茨干式真空泵 HR90
多級(jí)羅茨干式真空泵是一種在真空室內(nèi)不使用油或液體的機(jī)械真空泵。
在 FPD、電子和半導(dǎo)體行業(yè)等領(lǐng)域，需要更清潔的真空，并且需要真空泵來(lái)提高產(chǎn)量和可維護(hù)性。 *常見(jiàn)的泵是羅茨干式真空泵。
通過(guò)在高溫范圍內(nèi)均衡泵體的熱量，可以將 CVD、蝕刻等產(chǎn)生的升華廢氣物質(zhì)以
氣態(tài)排出。
長(zhǎng)處
可以在氣態(tài)下排放高溫區(qū)域熱均衡
CVD 和蝕刻產(chǎn)生的升華廢氣排放物。
“Model：UR” 甚至可以高于 “Model：HR”。
由于安裝了氦氣密封
屏蔽電機(jī)，因此具有密封結(jié)構(gòu)，因此非常安全。
瞬時(shí)停止：在 1000 毫秒內(nèi)實(shí)施瞬時(shí)停止
措施。
優(yōu)異的耐腐蝕性主要
部件采用特殊的表面處理，以高表面硬度和優(yōu)異的耐腐蝕性為標(biāo)準(zhǔn)。 減少排空腐蝕性氣體時(shí)泵內(nèi)部的腐蝕。
通信功能：
可以讀取泵運(yùn)行狀態(tài)和警告/警報(bào)歷史記錄數(shù)據(jù)。 通過(guò)使用軟件和計(jì)算機(jī)通信，可以進(jìn)行集中監(jiān)控。
用
CVD 設(shè)備
蝕刻設(shè)備
灰化裝置
ALD、ALH 等
| 型 | HR60 | HR90 | HR300 型 | HR600 型 | HR1200 型 | ||||
| 使用的泵 | DRP | HR60 | HR90 | HR60 | HR90 | HR90 | |||
| MPB | - | - | PRC-003A 系列 | PRC-006A 系列 | PRC-012A 系列 | ||||
|
* 抽速 |
50 赫茲 |
m3/h （升/分鐘） |
62(1030) | 112(1860) | 359(5,980) | 653(10,900) | 1,012(16,900) | ||
| 60 赫茲 |
m3/h （升/分鐘） |
80(1333) | 126(2100) | 365(6,080) | 701(11,700) | 1,051(17,500) | |||
| 極限壓力 | 帕 | 5 | 0.67????? | ||||||
|
*入口壓力 （入口壓力） |
|
大氣壓力 *1 | |||||||
|
*排氣口壓力 （排氣壓力） |
帕 | 1~大氣壓 | |||||||
| 進(jìn)氣口 （CE 規(guī)格） | VG50（KF50） 系列 | VG80型 （KF50） | VG80（KF80） 系列 | VG100型 （KF100） | |||||
| 排氣口 | 肯氟烴40 | ||||||||
| 質(zhì)量 | 公斤 | 180 | 245 | 275 | 370 | 420 | |||
| 電力 | 三個(gè)階段 | 交流電（Hz） | 200(50/60), 220(60) | ||||||
| 當(dāng)前值 | 穩(wěn)態(tài) | 一個(gè) |
7.1 （200V 時(shí)） |
11.2 （200V 時(shí)） |
7.8 （200V 時(shí)） |
12.9 （200V 時(shí)） |
15.4 （200V 時(shí)） |
||
| *值 | 一個(gè) |
7.3 （200V 時(shí)） |
11.8 （200V 時(shí)） |
8.1 （200V 時(shí)） |
13.8 （200V 時(shí)） |
18.9 （200V 時(shí)） |
|||
| 冷卻水臨時(shí)壓力 | 兆帕 | 0.1~0.3 | |||||||
| 冷卻水入口/出口壓差 | 兆帕 | >0.1 | |||||||
| 冷卻水流量 | 升/分鐘 | >5.0 | |||||||
| 吹掃氣體 | 一次壓力 | 兆帕 | 0.1~0.5 | ||||||
| 二次壓力 | 兆帕 | 0.05~0.1 | |||||||
| N2?吹掃 | 軸 | SLM 系列 | 5 | ||||||
| 加斯伯勒 | SLM 系列 | 0~45 | |||||||
2. 核心技術(shù)及產(chǎn)品
ULVAC的核心業(yè)務(wù)涵蓋：
真空設(shè)備：干式真空泵、分子泵、真空測(cè)量?jī)x器等。
鍍膜技術(shù)（PVD/CVD）：用于半導(dǎo)體、光學(xué)薄膜、太陽(yáng)能電池等。
半導(dǎo)體制造設(shè)備：濺射設(shè)備、蝕刻設(shè)備、封裝設(shè)備等。
分析測(cè)試儀器：X射線光電子能譜儀（XPS）、電子顯微鏡等。
新能源與顯示技術(shù)：OLED蒸鍍?cè)O(shè)備、鋰電薄膜設(shè)備等。
